Mặt nạ phòng độc Restech RM 7200 + Phin G2912T

Số lượng

– Dùng trong môi trường ô nhiễm , có khí độc , HCHC + Acid , Amoniac ( nồng độ thấp )

– Có CO,CQ từ Hàn Quốc – Đạt tiêu chuẩn về Châu Âu

– Cấu tạo khóa kép giúp phòng tránh trường hợp phin lọc bị rời ra

– Có nhiều kích thước để lựa chọn phù hợp với khuôn mặt

+ Các loại phin dùng cho mặt nạ RM 7200 :

Phin Lọc Bụi	HCHC + Acid		HCHC+Acid + Amoniac
Phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi
M2702S	phin-loc-phong-doc-G2912VA	phin-loc-phong-doc-GD2912VAC	phin-loc-phong-doc-G2912T	phin-loc-phong-doc-GD2912TC
Dùng trong môi trường có bụi/ sương/ khói	Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid	Nơi phát sinh thêm cả bụi	Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid	Nơi phát sinh thêm cả bụi

Viết đánh giá

Tên bạn:

Đánh giá của bạn:

Lưu ý: không hỗ trợ HTML!

Bình chọn: Xấu Tốt